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X光鍍層測(cè)厚儀操作使用要求
更新時(shí)間:2021-11-26   點(diǎn)擊次數(shù):1215次
  X光鍍層測(cè)厚儀的測(cè)量原理:物質(zhì)經(jīng)X射線或粒子射線照射后,由于吸收多余的能量而變成不穩(wěn)定的狀態(tài)。從不穩(wěn)定狀態(tài)要回到穩(wěn)定狀態(tài),此物質(zhì)必需將多余的能量釋放出來(lái),而此時(shí)是以熒光或光的形態(tài)被釋放出來(lái)。熒光X射線鍍層厚度測(cè)量?jī)x或成分分析儀的原理就是測(cè)量這被釋放出來(lái)的熒光的能量及強(qiáng)度,來(lái)進(jìn)行定性和定量分析。只需數(shù)秒鐘,便能非破壞性地得到準(zhǔn)確的測(cè)量結(jié)果,甚至是多層鍍層的樣品也一樣能勝任。可測(cè)量各類金屬層、合金層厚度等。

  X光鍍層測(cè)厚儀操作使用要求:
  曲率:不應(yīng)在試件的彎曲表面上測(cè)量。
  邊緣效應(yīng):不應(yīng)在緊靠試件的突變處,如邊緣、洞和內(nèi)轉(zhuǎn)角等處進(jìn)行測(cè)量。
  表面清潔度:測(cè)量前,應(yīng)清除表面上的任何附著物質(zhì),如塵土、油脂及腐蝕產(chǎn)物等,但不要除去任何覆蓋層物質(zhì)。
  基體金屬特性:對(duì)于磁性方法,標(biāo)準(zhǔn)片的基體金屬的磁性和表面粗糙度,應(yīng)當(dāng)與試件基體金屬的磁性和表面粗糙度相似。對(duì)于渦流方法,標(biāo)準(zhǔn)片基體金屬的電性質(zhì),應(yīng)當(dāng)與試件基體金屬的電性質(zhì)相似。
  基體金屬厚度:檢查基體金屬厚度是否超過(guò)臨界厚度,如果沒有,可采用3.3)中的某種方法進(jìn)行校準(zhǔn)。
  讀數(shù)次數(shù):通常由于儀器的每次讀數(shù)并不*相同,因此必須在每一測(cè)量面積內(nèi)取幾個(gè)讀數(shù)。覆蓋層厚度的局部差異,也要求在任一給定的面積內(nèi)進(jìn)行多次測(cè)量,表面粗造時(shí)更應(yīng)如此。


X光鍍層測(cè)厚儀

 

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